一种基体表面高硬度低磨损的 MoS2复合薄膜的制备方法
文献类型：专利
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| 作者 | 柯培玲 ; 秦晓鹏 ; 汪爱英 ; 王振玉 ; 张栋 |
| 发表日期 | 2013-04-24 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 中文摘要 | 本发明公开了一种基体表面高硬度低磨损的MoS2复合薄膜的制备方法，该方法采用高功率脉冲磁控溅射技术，结合优化的工艺条件，在基体表面依次沉积金属Ti打底层、TiN过渡层，以及Ti/MoS2复合薄膜，得到强膜基结合力、高硬度，并且在多种摩擦环境中具有低的摩擦系数和磨损率的MoS2复合薄膜，其纳米硬度为11GPa以上，临界载荷值为60N以上，在相对湿度为30%、50%、70%的室温空气，N2气氛和液压油环境中的摩擦系数均在0.055以下，因此能够对基体进行有效的减摩防护，具有良好的应用前景。 |
| 公开日期 | 2013-12-16 |
| 专利申请号 | CN201310026859.5 |
| 专利代理 | 陈英俊 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/11001]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_专利成果 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 柯培玲,秦晓鹏,汪爱英,等. 一种基体表面高硬度低磨损的 MoS2复合薄膜的制备方法, 一种基体表面高硬度低磨损的 MoS2复合薄膜的制备方法. 2013-04-24. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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