射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王海波 ; 孙建荣 ; 王兰喜 ; 魏福林 ; 王 丽 ; 王建波 ; 李发伸 ; 沈宝龙 |
| 刊名 | 宁波大学学报（理工版）
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 1 |
| 关键词 | NiZn 铁氧体 薄膜 溅射 穆斯堡尔谱 |
| 合作状况 | 其它 |
| 中文摘要 | 使用交替靶射频溅射的方法在不同基底上制备得到了成分为NixZn1-xFe2O4 的铁氧体薄膜, 研究了NiZn 铁氧体薄膜的生长条件, 探讨了不同工艺条件对薄膜性能的影响, 目的是提高薄膜 饱和磁化强度Ms, 降低薄膜矫顽力Hc, 改善薄膜的软磁性能, 以满足其在高频薄膜器件应用方 面的需要. 实验表明: 沉积态薄膜即为尖晶石结构. 并且通过不同实验条件对NiZn 铁氧体薄膜 性能影响的研究, 得到了最佳的NiZn 铁氧体薄膜的制备条件. |
| 收录类别 | 其它 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-07-22 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/546]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王海波,孙建荣,王兰喜,等. 射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性[J]. 宁波大学学报（理工版）,2010(1). |
| APA | 王海波.,孙建荣.,王兰喜.,魏福林.,王 丽.,...&沈宝龙.(2010).射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性.宁波大学学报（理工版）(1). |
| MLA | 王海波,et al."射频交替溅射法制备的NiZn 铁氧体薄膜的结构与磁性".宁波大学学报（理工版） .1(2010). |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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