氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李金龙 ; 冒守栋 ; 孙科沸 ; 宋振纶 |
| 刊名 | 中国表面工程
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 3 |
| 关键词 | NdFeB AlN/Al 膜 结构 腐蚀性能 |
| 合作状况 | 其它 |
| 中文摘要 | 采用直流磁控溅射在钕铁硼表面沉积AlN/Al 双层防护薄膜来提高磁体的耐腐蚀性能。先在基体表面沉积纯 Al 薄膜，然后沉积外层AlN 薄膜。沉积AlN 薄膜时，改变氮气分压，研究氮分压对薄膜结构和耐腐蚀性能的影响。 结果显示，AlN 纳米颗粒形成于内层Al 结晶体表面。氮氩分压比为1:1 时，钕铁硼表面形成了更致密的AlN/Al 薄膜。 膜基界面存在元素的互扩散和冶金结合。氮氩分压为1:1 的AlN/Al 防护薄膜具有最好的耐腐蚀性能。 |
| 收录类别 | 其它 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-07-22 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/547]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李金龙,冒守栋,孙科沸,等. 氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响[J]. 中国表面工程,2010(3). |
| APA | 李金龙,冒守栋,孙科沸,&宋振纶.(2010).氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响.中国表面工程(3). |
| MLA | 李金龙,et al."氮分压对钕铁硼表面直流磁控溅射沉积AlN/Al防护涂层结构和性能的影响".中国表面工程 .3(2010). |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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