阴极电弧制备TiAlN 薄膜工艺参数的正交分析研究
文献类型:期刊论文
作者 | 陈锋光 ; 孙丽丽 ; 成 浩 ; 柯培玲 ; 汪爱英 |
出版日期 | 2011 |
公开日期 | 2011-08-16 |
源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/2783] ![]() |
专题 | 宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈锋光,孙丽丽,成 浩,等. 阴极电弧制备TiAlN 薄膜工艺参数的正交分析研究[J],2011. |
APA | 陈锋光,孙丽丽,成 浩,柯培玲,&汪爱英.(2011).阴极电弧制备TiAlN 薄膜工艺参数的正交分析研究.. |
MLA | 陈锋光,et al."阴极电弧制备TiAlN 薄膜工艺参数的正交分析研究".(2011). |
入库方式: OAI收割
来源:宁波材料技术与工程研究所
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