effects of film density on electrochromic tungsten oxide thin films deposited by reactive dc-pulsed magnetron sputtering
文献类型：会议论文
| 作者 | Sun Xilian ; Liu Zhimin ; Cao Hongtao |
| 出版日期 | 2010 |
| 会议名称 | 16th International Symposium on Metastable, Amorphous and Nanostructured Materials |
| 会议日期 | JUL 05-09, |
| 会议地点 | Beijing, PEOPLES R CHINA |
| 关键词 | Tungsten oxide film |
| 页码 | S418-S421 |
| 收录类别 | 其它 |
| 会议录出版者 | JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS |
| 会议录出版地 | PO BOX 564, 1001 LAUSANNE, SWITZERLAND |
| 语种 | 英语 |
| ISSN号 | 0925-8388 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/1280]  |
| 专题 | 宁波材料技术与工程研究所_宁波所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Sun Xilian,Liu Zhimin,Cao Hongtao. effects of film density on electrochromic tungsten oxide thin films deposited by reactive dc-pulsed magnetron sputtering[C]. 见:16th International Symposium on Metastable, Amorphous and Nanostructured Materials. Beijing, PEOPLES R CHINA. JUL 05-09,. |
入库方式： OAI收割
来源：宁波材料技术与工程研究所
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