中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 徐书生 ; 高晓明; 胡明; 孙嘉奕; 翁立军; 刘维民
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| 刊名 | 摩擦学学报
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| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 33期号:5页码:507-513 |
| 关键词 | 中频磁控溅射 WSx薄膜 S/W原子比 摩擦磨损 medium frequency magnetron sputtering WSx film S/W ratio friction and wear |
| ISSN号 | 1004-0595 |
| 通讯作者 | 翁立军 ; 刘维民 |
| 中文摘要 | 采用中频磁控溅射制备了ＷＳｘ薄膜，通过Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、场发射扫描电子显微镜（ＦＥＳＥＭ）、原子力显微镜（ＡＦＭ）和Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）对其结构进行了分析，采用纳米压入仪（Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ）和真空球－盘摩擦试验机分别考察了薄膜的力学性能和摩擦磨损性能．结果表明：改变溅射功率密度和气压，将引起选择性溅射与薄膜氧化程度的变化，致使薄膜Ｓ/Ｗ原子比随之变化，薄膜的Ｓ/Ｗ 原子比随着溅射功率密度的增加先减小后增大，而随着溅射气压的增大逐渐增大．薄膜Ｓ/Ｗ原子比较低时，薄膜Ｗ含量较高，薄膜结构较致密、硬度较高，但摩擦系数较大、耐磨性能较差；随着Ｓ/Ｗ原子比的增大，薄膜中ＷＳ２含量显著增加，Ｗ 含量明显下降，摩擦系数降低，耐磨性能明显改善． |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 收录类别 | EI&CSCD |
| 资助信息 | 国家重点基础研究发展规划项目(973)(2013CB632300) |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-12-23 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/4842]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 徐书生,高晓明,胡明,等. 中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究[J]. 摩擦学学报,2013,33(5):507-513. |
| APA | 徐书生,高晓明,胡明,孙嘉奕,翁立军,&刘维民.(2013).中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究.摩擦学学报,33(5),507-513. |
| MLA | 徐书生,et al."中频磁控溅射制备不同S/W 原子比WSx薄膜的结构和摩擦学性能研究".摩擦学学报 33.5(2013):507-513. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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