Effect of Carrier Waveform Frequency on the Microstructure of Al2O3 Plasma Electrolyic Oxidation Films
文献类型：期刊论文
| 作者 | X. H. Guo ; K. Q. Du ; Q. Z. Guo ; Y. Wang ; F. H. Wang |
| 刊名 | Ecs Electrochemistry Letters
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 2期号:4页码:C11-C14 |
| 关键词 | 2024 al-alloy porous-electrodes grain-growth corrosion |
| ISSN号 | 2162-8726 |
| 原文出处 | |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-12-24 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/71237]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | X. H. Guo,K. Q. Du,Q. Z. Guo,et al. Effect of Carrier Waveform Frequency on the Microstructure of Al2O3 Plasma Electrolyic Oxidation Films[J]. Ecs Electrochemistry Letters,2013,2(4):C11-C14. |
| APA | X. H. Guo,K. Q. Du,Q. Z. Guo,Y. Wang,&F. H. Wang.(2013).Effect of Carrier Waveform Frequency on the Microstructure of Al2O3 Plasma Electrolyic Oxidation Films.Ecs Electrochemistry Letters,2(4),C11-C14. |
| MLA | X. H. Guo,et al."Effect of Carrier Waveform Frequency on the Microstructure of Al2O3 Plasma Electrolyic Oxidation Films".Ecs Electrochemistry Letters 2.4(2013):C11-C14. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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