High Performance Ultra-Thin Niobium Films for Superconducting Hot-Electron Devices
文献类型：期刊论文
| 作者 | X. Q. Jia ; L. Kang ; X. Y. Liu ; Z. H. Wang ; B. B. Jin ; S. B. Mi ; J. Chen ; W. W. Xu ; P. H. Wu |
| 刊名 | Ieee Transactions on Applied Superconductivity
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| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 23期号:3 |
| 关键词 | High critical current density (J(C)) magnetron sputtering niobium superconducting ultra-thin film nb surfaces arrays xps oxides |
| ISSN号 | 1051-8223 |
| 原文出处 | |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-12-24 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/71278]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | X. Q. Jia,L. Kang,X. Y. Liu,et al. High Performance Ultra-Thin Niobium Films for Superconducting Hot-Electron Devices[J]. Ieee Transactions on Applied Superconductivity,2013,23(3). |
| APA | X. Q. Jia.,L. Kang.,X. Y. Liu.,Z. H. Wang.,B. B. Jin.,...&P. H. Wu.(2013).High Performance Ultra-Thin Niobium Films for Superconducting Hot-Electron Devices.Ieee Transactions on Applied Superconductivity,23(3). |
| MLA | X. Q. Jia,et al."High Performance Ultra-Thin Niobium Films for Superconducting Hot-Electron Devices".Ieee Transactions on Applied Superconductivity 23.3(2013). |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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