Analyses of plasma reactive sputter deposition of CNx films by OES
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhao, J ; Kang, N ; Wang, JG ; Wang, RY ; Xu, JR |
| 刊名 | CHINESE SCIENCE BULLETIN
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 42期号:21页码:1792 |
| 关键词 | CARBON NITRIDE AMORPHOUS-CARBON |
| ISSN号 | 1001-6538 |
| 通讯作者 | Zhao, J: Chinese Acad Sci, Inst Phys, Lab Opt Phys, POB 603, Beijing 100080, Peoples R China. |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-17 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/33688]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhao, J,Kang, N,Wang, JG,et al. Analyses of plasma reactive sputter deposition of CNx films by OES[J]. CHINESE SCIENCE BULLETIN,1997,42(21):1792. |
| APA | Zhao, J,Kang, N,Wang, JG,Wang, RY,&Xu, JR.(1997).Analyses of plasma reactive sputter deposition of CNx films by OES.CHINESE SCIENCE BULLETIN,42(21),1792. |
| MLA | Zhao, J,et al."Analyses of plasma reactive sputter deposition of CNx films by OES".CHINESE SCIENCE BULLETIN 42.21(1997):1792. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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