BACKSCATTERING AND CHANNELING STUDY OF ZINC IMPLANTED SILICON
文献类型：期刊论文
| 作者 | YIN Shiduan ; GU Quan ; ZHANG Jingping ; ZHANG Qichu ; LIU Jiarui |
| 刊名 | Chin. Phys. Lett.
 |
| 出版日期 | 1986 |
| 卷号 | 3期号:8页码:381 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-17 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/34115]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | YIN Shiduan,GU Quan,ZHANG Jingping,et al. BACKSCATTERING AND CHANNELING STUDY OF ZINC IMPLANTED SILICON[J]. Chin. Phys. Lett.,1986,3(8):381. |
| APA | YIN Shiduan,GU Quan,ZHANG Jingping,ZHANG Qichu,&LIU Jiarui.(1986).BACKSCATTERING AND CHANNELING STUDY OF ZINC IMPLANTED SILICON.Chin. Phys. Lett.,3(8),381. |
| MLA | YIN Shiduan,et al."BACKSCATTERING AND CHANNELING STUDY OF ZINC IMPLANTED SILICON".Chin. Phys. Lett. 3.8(1986):381. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。