Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang, M ; Yu, W ; Wang, WK |
| 刊名 | JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS
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| 出版日期 | 1997 |
| 卷号 | 16期号:3页码:241 |
| 关键词 | THIN-FILMS INTERFACIAL REACTIONS SILICIDE FORMATION INITIAL-STAGE METAL (111)SI NUCLEATION DIFFUSION SYSTEMS |
| ISSN号 | 0261-8028 |
| 通讯作者 | Zhang, M: CHINESE ACAD SCI,INST PHYS,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA. |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-17 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/36400]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang, M,Yu, W,Wang, WK. Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers[J]. JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS,1997,16(3):241. |
| APA | Zhang, M,Yu, W,&Wang, WK.(1997).Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers.JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS,16(3),241. |
| MLA | Zhang, M,et al."Effect of deposition temperature on phase formation in Nb/Si multilayers".JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS 16.3(1997):241. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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