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INTERFACE STUDY OF HETEROEPITAXIAL DIAMOND FILMS ON SILICON(001) SUBSTRATES

文献类型:期刊论文

作者FENG, KA ; YANG, J ; LIN, ZD
刊名PHYSICAL REVIEW B
出版日期1995
卷号51期号:4页码:2264
关键词CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION CUBIC BORON-NITRIDE 100 SILICON GROWTH
ISSN号0163-1829
通讯作者FENG, KA: CHINESE ACAD SCI,INST PHYS,STATE KEY SURFACE PHYS LAB,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA.
收录类别SCI
语种英语
公开日期2013-09-18
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/40124]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
FENG, KA,YANG, J,LIN, ZD. INTERFACE STUDY OF HETEROEPITAXIAL DIAMOND FILMS ON SILICON(001) SUBSTRATES[J]. PHYSICAL REVIEW B,1995,51(4):2264.
APA FENG, KA,YANG, J,&LIN, ZD.(1995).INTERFACE STUDY OF HETEROEPITAXIAL DIAMOND FILMS ON SILICON(001) SUBSTRATES.PHYSICAL REVIEW B,51(4),2264.
MLA FENG, KA,et al."INTERFACE STUDY OF HETEROEPITAXIAL DIAMOND FILMS ON SILICON(001) SUBSTRATES".PHYSICAL REVIEW B 51.4(1995):2264.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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