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MeV级Si~+高温注入GaAs的晶格损伤积累与注入剂量的关系

文献类型:期刊论文

作者李岱青 ; 万亚 ; 任廷琦 ; 朱沛然 ; 徐天冰
刊名核技术
出版日期1995
期号6页码:348-351
公开日期2013-09-18
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/41965]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李岱青,万亚,任廷琦,等. MeV级Si~+高温注入GaAs的晶格损伤积累与注入剂量的关系[J]. 核技术,1995(6):348-351.
APA 李岱青,万亚,任廷琦,朱沛然,&徐天冰.(1995).MeV级Si~+高温注入GaAs的晶格损伤积累与注入剂量的关系.核技术(6),348-351.
MLA 李岱青,et al."MeV级Si~+高温注入GaAs的晶格损伤积累与注入剂量的关系".核技术 .6(1995):348-351.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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