热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 郑鹉 ; 高居里 ; 王艾玲 ; 阎明朗 |
| 刊名 | 磁记录材料
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| 出版日期 | 1995 |
| 期号 | 4页码:7-10 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-09-22 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/42818]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑鹉,高居里,王艾玲,等. 热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响[J]. 磁记录材料,1995(4):7-10. |
| APA | 郑鹉,高居里,王艾玲,&阎明朗.(1995).热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响.磁记录材料(4),7-10. |
| MLA | 郑鹉,et al."热处理温度对NiFe薄膜磁电阻的影响".磁记录材料 .4(1995):7-10. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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