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双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究

文献类型:期刊论文

作者周士仁 ; 叶以正 ; 叶水驰 ; 麦振洪 ; 戴道扬 ; 杨家德 ; 陈慕章
刊名半导体学报
出版日期1988
期号2页码:169-174+227-228
语种中文
公开日期2013-09-22
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/43071]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
周士仁,叶以正,叶水驰,等. 双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究[J]. 半导体学报,1988(2):169-174+227-228.
APA 周士仁.,叶以正.,叶水驰.,麦振洪.,戴道扬.,...&陈慕章.(1988).双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究.半导体学报(2),169-174+227-228.
MLA 周士仁,et al."双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究".半导体学报 .2(1988):169-174+227-228.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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