双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究
文献类型:期刊论文
作者 | 周士仁 ; 叶以正 ; 叶水驰 ; 麦振洪 ; 戴道扬 ; 杨家德 ; 陈慕章 |
刊名 | 半导体学报
![]() |
出版日期 | 1988 |
期号 | 2页码:169-174+227-228 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2013-09-22 |
源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/43071] ![]() |
专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 周士仁,叶以正,叶水驰,等. 双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究[J]. 半导体学报,1988(2):169-174+227-228. |
APA | 周士仁.,叶以正.,叶水驰.,麦振洪.,戴道扬.,...&陈慕章.(1988).双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究.半导体学报(2),169-174+227-228. |
MLA | 周士仁,et al."双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究".半导体学报 .2(1988):169-174+227-228. |
入库方式: OAI收割
来源:物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。