双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周士仁 ; 叶以正 ; 叶水驰 ; 麦振洪 ; 戴道扬 ; 杨家德 ; 陈慕章 |
| 刊名 | 半导体学报
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| 出版日期 | 1988 |
| 期号 | 2页码:169-174+227-228 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-09-22 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/43071]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周士仁,叶以正,叶水驰,等. 双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究[J]. 半导体学报,1988(2):169-174+227-228. |
| APA | 周士仁.,叶以正.,叶水驰.,麦振洪.,戴道扬.,...&陈慕章.(1988).双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究.半导体学报(2),169-174+227-228. |
| MLA | 周士仁,et al."双吸除技术在CCD制造中的应用及其具有增强吸除功能的研究".半导体学报 .2(1988):169-174+227-228. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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