液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵光林 ; 刘家瑞 ; 周俊思 ; 郑家祺 ; 陈熙琛 ; 王祖仑 ; 郗小星 ; 李政孝 ; 管惟炎 |
| 刊名 | 低温物理
 |
| 出版日期 | 1984 |
| 期号 | 1页码:20-22 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2013-09-23 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/43805]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵光林,刘家瑞,周俊思,等. 液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响[J]. 低温物理,1984(1):20-22. |
| APA | 赵光林.,刘家瑞.,周俊思.,郑家祺.,陈熙琛.,...&管惟炎.(1984).液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响.低温物理(1),20-22. |
| MLA | 赵光林,et al."液氮温度下Si~+离子注入对急冷Al-Si-Ge合金超导电性的影响".低温物理 .1(1984):20-22. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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