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用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜

文献类型:期刊论文

作者何萌 ; 刘国珍 ; 仇杰 ; 邢杰 ; 吕惠宾
刊名物理学报
出版日期2008
期号2页码:1236-1240
公开日期2013-09-23
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/44133]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
何萌,刘国珍,仇杰,等. 用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜[J]. 物理学报,2008(2):1236-1240.
APA 何萌,刘国珍,仇杰,邢杰,&吕惠宾.(2008).用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜.物理学报(2),1236-1240.
MLA 何萌,et al."用激光分子束外延在Si衬底上外延生长高质量的TiN薄膜".物理学报 .2(2008):1236-1240.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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