在高ECR 等离子体密度下沉积高质量氮化镓薄膜(英文)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杜小龙 ; 陈广超 ; 姚鑫兹 ; 朱鹤荪 |
| 刊名 | Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition)
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 4页码:374-380 |
| 公开日期 | 2013-09-23 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/44341]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜小龙,陈广超,姚鑫兹,等. 在高ECR 等离子体密度下沉积高质量氮化镓薄膜(英文)[J]. Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition),1999(4):374-380. |
| APA | 杜小龙,陈广超,姚鑫兹,&朱鹤荪.(1999).在高ECR 等离子体密度下沉积高质量氮化镓薄膜(英文).Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition)(4),374-380. |
| MLA | 杜小龙,et al."在高ECR 等离子体密度下沉积高质量氮化镓薄膜(英文)".Journal of Beijing Institute of Technology(English Edition) .4(1999):374-380. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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