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Tb淀积在WO_(2.7~2.9)(兰色氧化钨)表面的XPS研究

文献类型:期刊论文

作者齐上雪 ; 谢侃 ; 林彰达
刊名真空科学与技术
出版日期1990
期号5页码:307-310
公开日期2013-09-23
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/44721]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
齐上雪,谢侃,林彰达. Tb淀积在WO_(2.7~2.9)(兰色氧化钨)表面的XPS研究[J]. 真空科学与技术,1990(5):307-310.
APA 齐上雪,谢侃,&林彰达.(1990).Tb淀积在WO_(2.7~2.9)(兰色氧化钨)表面的XPS研究.真空科学与技术(5),307-310.
MLA 齐上雪,et al."Tb淀积在WO_(2.7~2.9)(兰色氧化钨)表面的XPS研究".真空科学与技术 .5(1990):307-310.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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