沉积温度为室温和560℃的Nb/Si多层膜微结构研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张明 ; 赵建华 ; 曹立民 ; 许应凡 ; 王文魁 |
| 刊名 | 真空科学与技术
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 2页码:78-82 |
| 公开日期 | 2013-09-23 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/47314]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张明,赵建华,曹立民,等. 沉积温度为室温和560℃的Nb/Si多层膜微结构研究[J]. 真空科学与技术,1999(2):78-82. |
| APA | 张明,赵建华,曹立民,许应凡,&王文魁.(1999).沉积温度为室温和560℃的Nb/Si多层膜微结构研究.真空科学与技术(2),78-82. |
| MLA | 张明,et al."沉积温度为室温和560℃的Nb/Si多层膜微结构研究".真空科学与技术 .2(1999):78-82. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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