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衬底对化学气相沉积法制备氧化硅纳米线的影响

文献类型:期刊论文

作者闫小琴 ; 刘祖琴 ; 唐东升 ; 慈立杰 ; 刘东方 ; 周振平 ; 梁迎新 ; 袁华军 ; 周维亚 ; 王刚
刊名物理学报
出版日期2003
卷号52期号:2页码:454-458
公开日期2013-09-23
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/47319]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
闫小琴,刘祖琴,唐东升,等. 衬底对化学气相沉积法制备氧化硅纳米线的影响[J]. 物理学报,2003,52(2):454-458.
APA 闫小琴.,刘祖琴.,唐东升.,慈立杰.,刘东方.,...&王刚.(2003).衬底对化学气相沉积法制备氧化硅纳米线的影响.物理学报,52(2),454-458.
MLA 闫小琴,et al."衬底对化学气相沉积法制备氧化硅纳米线的影响".物理学报 52.2(2003):454-458.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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