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低饱和场巨磁电阻金属多层膜Ni_(80)Fe_(20)/Cu的结构与磁电阻

文献类型:期刊论文

作者姜宏伟 ; 阎明朗 ; 赖武彦 ; 柴春林 ; 朱逢吾
刊名北京科技大学学报
出版日期1997
期号4页码:360-364
语种中文
公开日期2013-09-23
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/47581]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
姜宏伟,阎明朗,赖武彦,等. 低饱和场巨磁电阻金属多层膜Ni_(80)Fe_(20)/Cu的结构与磁电阻[J]. 北京科技大学学报,1997(4):360-364.
APA 姜宏伟,阎明朗,赖武彦,柴春林,&朱逢吾.(1997).低饱和场巨磁电阻金属多层膜Ni_(80)Fe_(20)/Cu的结构与磁电阻.北京科技大学学报(4),360-364.
MLA 姜宏伟,et al."低饱和场巨磁电阻金属多层膜Ni_(80)Fe_(20)/Cu的结构与磁电阻".北京科技大学学报 .4(1997):360-364.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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