硅基集成电路的发展和新一代栅极氧化物材料的研究现状
文献类型：期刊论文
| 作者 | 相文峰 ; 颜雷 ; 谈国太 ; 郭海中 ; 刘丽峰 ; 吕惠宾 ; 周岳亮 ; 陈正豪 |
| 刊名 | 物理
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| 出版日期 | 2003 |
| 卷号 | 32期号:4页码:228-234 |
| 公开日期 | 2013-09-23 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/48655]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 相文峰,颜雷,谈国太,等. 硅基集成电路的发展和新一代栅极氧化物材料的研究现状[J]. 物理,2003,32(4):228-234. |
| APA | 相文峰.,颜雷.,谈国太.,郭海中.,刘丽峰.,...&陈正豪.(2003).硅基集成电路的发展和新一代栅极氧化物材料的研究现状.物理,32(4),228-234. |
| MLA | 相文峰,et al."硅基集成电路的发展和新一代栅极氧化物材料的研究现状".物理 32.4(2003):228-234. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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