Phase evolution of silicide in Nb/Si multilayers
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang, M ; Yu, W ; Zhang, J ; Zhang, YY ; Wang, WK |
| 刊名 | CHINESE SCIENCE BULLETIN
 |
| 出版日期 | 1996 |
| 卷号 | 41期号:15页码:1248 |
| 关键词 | INTERFACIAL REACTIONS THIN-FILMS INITIAL-STAGE METAL (111)SI NUCLEATION SYSTEMS |
| ISSN号 | 1001-6538 |
| 通讯作者 | Zhang, M (reprint author), CHINESE ACAD SCI,INST PHYS,POB 603,BEIJING 100080,PEOPLES R CHINA. |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2013-09-24 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/50738]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang, M,Yu, W,Zhang, J,et al. Phase evolution of silicide in Nb/Si multilayers[J]. CHINESE SCIENCE BULLETIN,1996,41(15):1248. |
| APA | Zhang, M,Yu, W,Zhang, J,Zhang, YY,&Wang, WK.(1996).Phase evolution of silicide in Nb/Si multilayers.CHINESE SCIENCE BULLETIN,41(15),1248. |
| MLA | Zhang, M,et al."Phase evolution of silicide in Nb/Si multilayers".CHINESE SCIENCE BULLETIN 41.15(1996):1248. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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