Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing
文献类型：期刊论文
| 作者 | Y.Q. Wang ; X.B. Liao ; Z.X. Ma ; G.Z. Yue ; H.W. Diao ; J. He ; G.L. Kong |
| 刊名 | Applied Surface Science
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| 出版日期 | 1998 |
| 卷号 | 135页码:205 |
| 公开日期 | 2013-09-24 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/52748]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Y.Q. Wang,X.B. Liao,Z.X. Ma,et al. Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing[J]. Applied Surface Science,1998,135:205. |
| APA | Y.Q. Wang.,X.B. Liao.,Z.X. Ma.,G.Z. Yue.,H.W. Diao.,...&G.L. Kong.(1998).Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing.Applied Surface Science,135,205. |
| MLA | Y.Q. Wang,et al."Solid-phase crystallization and dopant activation of amorphous silicon films by pulsed rapid thermal annealing".Applied Surface Science 135(1998):205. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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