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Surface oxidation of vanadium dioxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering

文献类型:期刊论文

作者Wang Xue-Jin(王学进) ; Liang Chun-Jun(梁春军) ; Guan Kang-Ping(管康萍) ; Li De-Hua(李德华) ; Nie Yu-Xin(聂玉昕) ; Zhu Shi-Oiu(朱世秋) ; Huang Feng(黄 峰) ; Zhang Wei-Wei(张葳葳) ; Cheng Zheng-Wei(成正维)
刊名Chinese Physics B
出版日期2008
卷号17期号:9页码:3512
公开日期2013-09-24
源URL[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/54187]  
专题物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Wang Xue-Jin,Liang Chun-Jun,Guan Kang-Ping,et al. Surface oxidation of vanadium dioxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering[J]. Chinese Physics B,2008,17(9):3512.
APA Wang Xue-Jin.,Liang Chun-Jun.,Guan Kang-Ping.,Li De-Hua.,Nie Yu-Xin.,...&Cheng Zheng-Wei.(2008).Surface oxidation of vanadium dioxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering.Chinese Physics B,17(9),3512.
MLA Wang Xue-Jin,et al."Surface oxidation of vanadium dioxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering".Chinese Physics B 17.9(2008):3512.

入库方式: OAI收割

来源:物理研究所

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