Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中Cu的层间偏聚及其对磁性的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 于广华 ; 李明华 ; 朱逢吾 ; 柴春林 ; 姜宏伟 ; 赖武彦 |
| 刊名 | 中国科学E辑:技术科学
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| 出版日期 | 2003 |
| 期号 | 9页码:778-782 |
| 公开日期 | 2013-09-24 |
| 源URL | [http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/54513]  |
| 专题 | 物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于广华,李明华,朱逢吾,等. Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中Cu的层间偏聚及其对磁性的影响[J]. 中国科学E辑:技术科学,2003(9):778-782. |
| APA | 于广华,李明华,朱逢吾,柴春林,姜宏伟,&赖武彦.(2003).Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中Cu的层间偏聚及其对磁性的影响.中国科学E辑:技术科学(9),778-782. |
| MLA | 于广华,et al."Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中Cu的层间偏聚及其对磁性的影响".中国科学E辑:技术科学 .9(2003):778-782. |
入库方式： OAI收割
来源：物理研究所
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