电化学沉积法制备钇稳定ZrO_2(YSZ)薄膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢慧琴 ; 赁泓巍 ; 康晓红 ; 李陵川 ; 卢立柱 |
| 刊名 | 化工学报
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 05页码:451-455 |
| 关键词 | 电沉积 钇稳定ZrO2 薄膜 |
| 中文摘要 | The yttria-stabilized zirconia(YSZ)film was fabricated on the La 0.8 Sr 0.2 MnO 3(LSM)substrate by electrochemical deposition.The effects of electrochemical deposition conditions on morphological structure of Y(OH) 3 -Zr(OH) 4 film were studied.The optimal conditions for depositing homogeneous and compact hydroxide film were obtained.The experimental results show that the density of the electrophoretic deposition film is increased remarkably if electrochemical deposition is applied to fill in the pores. |
| 公开日期 | 2014-01-15 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7080]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢慧琴,赁泓巍,康晓红,等. 电化学沉积法制备钇稳定ZrO_2(YSZ)薄膜[J]. 化工学报,2001(05):451-455. |
| APA | 谢慧琴,赁泓巍,康晓红,李陵川,&卢立柱.(2001).电化学沉积法制备钇稳定ZrO_2(YSZ)薄膜.化工学报(05),451-455. |
| MLA | 谢慧琴,et al."电化学沉积法制备钇稳定ZrO_2(YSZ)薄膜".化工学报 .05(2001):451-455. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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