EB-PVD在热障涂层中的研究及应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王栋 ; 巴德纯 ; 杜广煜 ; 陈小龙 ; 宫骏 |
| 刊名 | 真空
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| 出版日期 | 2013-09-25 |
| 期号 | 5页码:6-8 |
| 关键词 | 电子束物理气相沉积 热障涂层 工艺特点 改进 |
| 中文摘要 | EB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术。在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上。由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层致密,化学成分易于精确控制,可得到柱状晶组织,无污染,热效率高,基片与薄膜之间有较强的结合力等诸多优点,已被广泛应用于国防和民用领域。本文介绍了EB-PVD技术在制备热障涂层时优势、不足与改进措施。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-02-18 |
| 源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/72312]  |
| 专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王栋,巴德纯,杜广煜,等. EB-PVD在热障涂层中的研究及应用[J]. 真空,2013(5):6-8. |
| APA | 王栋,巴德纯,杜广煜,陈小龙,&宫骏.(2013).EB-PVD在热障涂层中的研究及应用.真空(5),6-8. |
| MLA | 王栋,et al."EB-PVD在热障涂层中的研究及应用".真空 .5(2013):6-8. |
入库方式： OAI收割
来源：金属研究所
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