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射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响

文献类型:期刊论文

作者周惠娣; 李红轩; 陈建敏
刊名物理学报
出版日期2005
卷号54期号:4页码:1885-1889
关键词等离子增强化学气相沉积 类金刚石薄膜 射频功率 结构和性能 plasma-enhanced chemical vapor deposition diamond-like carbon films RF power structure and properties
ISSN号1000-3290
通讯作者陈建敏
中文摘要利用直流-射频-等离子体增强化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,采用原子力显微镜、Raman 光谱、x 射线光电子能谱、红外光谱和纳米压痕仪考察了射频功率对类金刚石薄膜表面形貌、微观结构、硬度和弹性模量的影响. 结果表明, 制备的薄膜具有典型的含H 类金刚石结构特征, 薄膜致密均匀, 表面粗糙度很小. 随着射频功率的升高, 薄膜中成键H 的含量逐渐降低, 而薄膜的sp3 含量、硬度以及弹性模量先升高, 后降低, 并在射频功率为100 W时达到最大.
学科主题材料科学与物理化学
收录类别SCI ; CSCD
资助信息国家自然科学基金(批准号:59925513;50323007);国家高技术研究发展计划(批准号:2003AA305670);中国科学院“百人计划”
语种中文
公开日期2014-03-03
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/5108]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
通讯作者陈建敏
推荐引用方式
GB/T 7714
周惠娣,李红轩,陈建敏. 射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响[J]. 物理学报,2005,54(4):1885-1889.
APA 周惠娣,李红轩,&陈建敏.(2005).射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响.物理学报,54(4),1885-1889.
MLA 周惠娣,et al."射频功率对类金刚石薄膜结构和性能的影响".物理学报 54.4(2005):1885-1889.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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