多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定
文献类型:期刊论文
作者 | 刘维民![]() |
刊名 | 物理学报
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出版日期 | 2005 |
卷号 | 54期号:1页码:439-444 |
关键词 | 薄膜光学 光学常数 多孔阳极氧化铝 阳极氧化电压 film optics optical constants porous anodic aluminum oxide (AAO) anodic oxidation voltage |
ISSN号 | 1000-3290 |
通讯作者 | 王成伟 |
中文摘要 | 根据多孔阳极氧化铝(AAO) 薄膜的实验透射谱(200—2500 nm), 采用极值包络线算法确定其光学常数, 并由此较精确地计算出AAO 薄膜样品在该波段的光学常数. 结果表明, 多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙(能隙约4.5 eV)半导体的光学特性, 且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性, 即随阳极氧化电压的增加, AAO 薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大, 消光系数减小. 同时, 计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合, 则说明计算结果和实验值是自洽的. |
学科主题 | 材料科学与物理化学 |
收录类别 | SCI ; CSCD |
资助信息 | 甘肃省自然科学基金(批准号:ZS0212A2520292C);西北师范大学二期科技创新工程项目(批准号:KJCXGC2214) |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:2022776 |
公开日期 | 2014-03-03 |
源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/5109] ![]() |
专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘维民. 多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定[J]. 物理学报,2005,54(1):439-444. |
APA | 刘维民.(2005).多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定.物理学报,54(1),439-444. |
MLA | 刘维民."多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定".物理学报 54.1(2005):439-444. |
入库方式: OAI收割
来源:兰州化学物理研究所
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