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多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定

文献类型:期刊论文

作者刘维民
刊名物理学报
出版日期2005
卷号54期号:1页码:439-444
关键词薄膜光学 光学常数 多孔阳极氧化铝 阳极氧化电压 film optics optical constants porous anodic aluminum oxide (AAO) anodic oxidation voltage
ISSN号1000-3290
通讯作者王成伟
中文摘要根据多孔阳极氧化铝(AAO) 薄膜的实验透射谱(200—2500 nm), 采用极值包络线算法确定其光学常数, 并由此较精确地计算出AAO 薄膜样品在该波段的光学常数. 结果表明, 多孔氧化铝薄膜表现出直接带隙(能隙约4.5 eV)半导体的光学特性, 且其光学常数与制样中的重要工艺参数阳极氧化电压有显著的相关性, 即随阳极氧化电压的增加, AAO 薄膜的厚度、折射率和光学能隙变大, 消光系数减小. 同时, 计算得到的薄膜厚度与实测值相吻合, 则说明计算结果和实验值是自洽的.
学科主题材料科学与物理化学
收录类别SCI ; CSCD
资助信息甘肃省自然科学基金(批准号:ZS0212A2520292C);西北师范大学二期科技创新工程项目(批准号:KJCXGC2214)
语种中文
CSCD记录号CSCD:2022776
公开日期2014-03-03
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/5109]  
专题兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
刘维民. 多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定[J]. 物理学报,2005,54(1):439-444.
APA 刘维民.(2005).多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定.物理学报,54(1),439-444.
MLA 刘维民."多孔阳极氧化铝薄膜光学常数的确定".物理学报 54.1(2005):439-444.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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