离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王立平 ; 梁爱民
|
| 刊名 | 材料科学与工程学报
 |
| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 23期号:4页码:534-536 |
| 关键词 | TiN薄膜 离子束辅助沉积 结合强度 纳米硬度 摩擦学性能 TiN film ion beam aided deposition bonding strength hardness tribological properties |
| ISSN号 | 1673-2812 |
| 中文摘要 | 采用低能离子束辅助沉积技术在Si片上制备了TiN 纳米薄膜。考察了离子束流密度和基底温度对薄膜性能的影响。研究表明: 随着离子束流密度的增大, TiN 薄膜的纳米硬度上升, 膜基结合力变化不大, 薄膜的耐磨性获得了很大改善; 制膜时的基底温度升高, 薄膜的硬度也会上升, 但膜基结合力下降, 摩擦系数增大, 薄膜的耐磨性下降。 |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目(50323007;50172052) |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:2000722 |
| 公开日期 | 2014-03-03 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/5271]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王立平,梁爱民. 离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响[J]. 材料科学与工程学报,2005,23(4):534-536. |
| APA | 王立平,&梁爱民.(2005).离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响.材料科学与工程学报,23(4),534-536. |
| MLA | 王立平,et al."离子束流密度和基底温度对TiN纳米薄膜性能的影响".材料科学与工程学报 23.4(2005):534-536. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。