1555nm宽带通滤光膜的设计和优化
文献类型：期刊论文
| 作者 | 宁永强 ; 王立军; 张金龙
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| 刊名 | 中国光学
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| 出版日期 | 2013-08-15 |
| 期号 | 04页码:557-562 |
| 关键词 | 带通滤光膜 膜系设计 薄膜制备 |
| 中文摘要 | 针对对空间通信的特殊需求,设计并制备了1 555 nm波段的高透过率、宽带通滤光膜,该滤光膜在高温高湿环境下能够稳定工作。根据薄膜设计理论,选取折射率差大的TiO2和SiO2作为镀膜材料,采用规整膜系进行膜系设计。借助Optilayer软件,采用针形优化和双面镀膜方法,得到优化的非规整膜系。采用直接与间接监控相结合的手段监控薄膜生长,并探讨了薄膜的生长条件。在电子束蒸发离子辅助沉积条件下,制备出中心波长处透过率达到97%,带宽为50 nm的滤光膜。在100℃高温和-30℃低温各保持3 h的条件下,波长漂移仅0.2 nm,具有高的稳定性和可靠性,满足空间通信的使用要求。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-03-07 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38220]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宁永强,王立军,张金龙. 1555nm宽带通滤光膜的设计和优化[J]. 中国光学,2013(04):557-562. |
| APA | 宁永强,王立军,&张金龙.(2013).1555nm宽带通滤光膜的设计和优化.中国光学(04),557-562. |
| MLA | 宁永强,et al."1555nm宽带通滤光膜的设计和优化".中国光学 .04(2013):557-562. |
入库方式： OAI收割
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