点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 于长淞 ; 向阳
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| 刊名 | 激光与光电子学进展
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| 出版日期 | 2013-03-10 |
| 期号 | 03页码:33-39 |
| 关键词 | 光学器件 小孔掩模 电磁场仿真 波像差 |
| 中文摘要 | 在点衍射干涉仪中小孔掩模的主要作用是通过衍射产生接近理想的球面波用于干涉测量,其直径、圆度及三维形貌对测量精度有决定性影响。介绍了小孔掩模的结构与作用原理,对小孔衍射电磁场仿真技术进行了分类比较。对国内外现有小孔掩模加工技术的发展进行了归纳总结,阐述了聚焦离子束刻蚀、电子束曝光等加工技术的加工原理、加工精度及技术特点,指出了掩模对准精度对测量重复性的影响。分析了各种检测方法及存在的主要技术问题,并对小孔三维形貌的测量技术进行了展望。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-03-07 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38578]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 于长淞,向阳. 点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展[J]. 激光与光电子学进展,2013(03):33-39. |
| APA | 于长淞,&向阳.(2013).点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展.激光与光电子学进展(03),33-39. |
| MLA | 于长淞,et al."点衍射干涉仪小孔掩模技术研究进展".激光与光电子学进展 .03(2013):33-39. |
入库方式： OAI收割
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