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全球面变焦距光刻系统设计

文献类型:期刊论文

作者康玉思; 刘伟奇; 魏忠伦; 冯睿
刊名光学学报
出版日期2013-06-10
期号06页码:262-267
关键词光学设计 变焦距光学系统 光刻物镜 球面设计
中文摘要设计了一种采用全球面透镜并具有变焦距功能的光刻系统。系统具有4个机械变焦的位置,两片负透镜作为变倍组,两片正透镜作为移动补偿组,补偿在变焦过程中由于系统共轭距离变化造成的像面移动。该系统光学总长为653.67mm,系统采用的22片透镜元件,全部采用球面设计,同时系统中没有使用特种光学玻璃。该系统工作在光刻常用波长405nm下,其500lp/mm调制函数值在4个变焦位置和所有视场内均大于0.40,绝对畸变小于六分之一特征尺寸。设计结果表明该系统成像效果良好,制作成本低,适用于工作在刻蚀微米量级分辨率、变焦距双远心光刻系统中。
收录类别CNKI
语种中文
公开日期2014-03-07
源URL[http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38687]  
专题长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出
推荐引用方式
GB/T 7714
康玉思,刘伟奇,魏忠伦,等. 全球面变焦距光刻系统设计[J]. 光学学报,2013(06):262-267.
APA 康玉思,刘伟奇,魏忠伦,&冯睿.(2013).全球面变焦距光刻系统设计.光学学报(06),262-267.
MLA 康玉思,et al."全球面变焦距光刻系统设计".光学学报 .06(2013):262-267.

入库方式: OAI收割

来源:长春光学精密机械与物理研究所

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