深凹球面网栅恒定曝光量激光直写控制实现
文献类型：期刊论文
| 作者 | 梁凤超 |
| 刊名 | 红外与激光工程
 |
| 出版日期 | 2013-02-25 |
| 期号 | 02页码:381-386 |
| 关键词 | 恒定曝光量 凹球面 网栅 激光直写 伺服控制 |
| 中文摘要 | 为在深凹球面内激光直写高质量网栅图形,必须实现写入过程恒定曝光量控制。首先介绍了深凹球面网栅激光直写设备原理,然后分析了任意纬线扫描运动状态,推导了工件尺寸、网栅参数、扫描速度间数学关系,最后建立了恒定曝光量扫描运动数学模型,开发了伺服控制软、硬件系统,确保了扫描角速度随纬度自动精确调整来保持线速度不变,实现了深凹球面网栅激光直写恒定曝光量控制,提高了写入线条质量。在矢跨比为0.31的深凹球面内制备了周期500μm的网栅,显影后测得线条线宽均匀,侧壁陡直,线宽误差≤±1%,网格周期误差≤±5%。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-03-07 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/38974]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 梁凤超. 深凹球面网栅恒定曝光量激光直写控制实现[J]. 红外与激光工程,2013(02):381-386. |
| APA | 梁凤超.(2013).深凹球面网栅恒定曝光量激光直写控制实现.红外与激光工程(02),381-386. |
| MLA | 梁凤超."深凹球面网栅恒定曝光量激光直写控制实现".红外与激光工程 .02(2013):381-386. |
入库方式： OAI收割
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