Dielectric and barrier thickness fluctuation scattering in Al2O3AlGaNGaN double
文献类型：期刊论文
| 作者 | Dong Jia, Yanwu Lu , Bing Liu, Guipeng Liu, Qinsheng Zhu, Zhanguo Wang |
| 刊名 | thin solid films
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 534页码:655–658 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2014-03-18 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24517]  |
| 专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Dong Jia, Yanwu Lu , Bing Liu, Guipeng Liu, Qinsheng Zhu, Zhanguo Wang. Dielectric and barrier thickness fluctuation scattering in Al2O3AlGaNGaN double[J]. thin solid films,2013,534:655–658. |
| APA | Dong Jia, Yanwu Lu , Bing Liu, Guipeng Liu, Qinsheng Zhu, Zhanguo Wang.(2013).Dielectric and barrier thickness fluctuation scattering in Al2O3AlGaNGaN double.thin solid films,534,655–658. |
| MLA | Dong Jia, Yanwu Lu , Bing Liu, Guipeng Liu, Qinsheng Zhu, Zhanguo Wang."Dielectric and barrier thickness fluctuation scattering in Al2O3AlGaNGaN double".thin solid films 534(2013):655–658. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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