用主动抛光盘磨制非球面是一个动态的过程,必须保证在计算机控制下,主轴的移动、旋转,和抛光盘的旋转、倾斜、变形及升降,以及主镜的旋转都步调一致。推导出在模式中诸要点的位置、速度、加速度和时间的关系,并根据所加工的口径<910 mm ,焦比为F/ 2 的抛物面主镜参量和所用主动抛光盘的参量分析:1) 主动抛光盘基板的变形特性,即它的变形量、变形的速度和加速度,以及近似公式与精确公式之间的差异;2) 主动抛光盘背面的三个提升点运动规律,即它的升降量、升降的速度和加速度;3) 主动抛光盘的变形量和它在差分变压器式线性微位移传感器(LVDT) 测试架上所测得的测量量之间的关系;4) 分析主动抛光盘的变形与提升的速度与加速度和抛光盘沿横梁的运动速度V 1 以及抛光盘自身的转速V 2 之间的关系和特性。此分析是主动抛光盘的数学基础,它为主动抛光盘的机械和电控设计提供了技术依据,为实现计算机控制下的6 轴联动提供了保证。