中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
热门
离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法

文献类型:期刊论文

作者郭伟远; 梁斌; 成贤锴
刊名应用光学
出版日期2011-09
卷号32期号:5页码:888-894
关键词离子束抛光 驻留时间 矩阵运算 计算机控制光学表面成形
中文摘要
在离子束抛光工艺中,驻留时间的求解是很关键的。通常求解驻留时间的时候,是用理想的高斯函数来近似实际的加工函数。如果使用实际的加工函数仿真加工,加工的效果不好。运用系数法和消去法的综合算法来提高采用实际加工函数仿真加工镜面面型的精度,首先多次用系数法得到比较理想且平滑的镜面面型,然后再用消去法精修面型。这种算法运算速度快,得到的面型精度高且较平滑。对这种综合算法进行仿真分析,比较了理想高斯函数与实际加工函数加工后的差别,同时比较了运用消去算法与综合算法得到的镜面面型,PV 值由83.63nm减小到46.92nm,镜面精度提高了很多。
学科主题天文镜面(材料、加工、检测)
公开日期2013-12-31
源URL[http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/527]  
专题期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
郭伟远,梁斌,成贤锴. 离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法[J]. 应用光学,2011,32(5):888-894.
APA 郭伟远,梁斌,&成贤锴.(2011).离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法.应用光学,32(5),888-894.
MLA 郭伟远,et al."离子束抛光工艺中驻留时间的综合算法".应用光学 32.5(2011):888-894.

入库方式: OAI收割

来源:南京天文光学技术研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。