光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴桢 ; 林燮佳
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| 刊名 | 应用光学
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| 出版日期 | 2012-01 |
| 卷号 | 33期号:1页码:30-37 |
| 关键词 | 长基线 干涉阵排列 ｕｖ覆盖 蒙特卡洛 光学合成孔径 |
| 中文摘要 |
从地平坐标系和时角坐标系出发，运用坐标旋转公式推导出光学合成孔径成像技术中干涉阵排列和ｕｖ覆盖之间的几何关系式，以特定观测天区为例，在南京模拟三孔径Ｙ型阵，并运用蒙特卡洛法对２个目标函数分别优化，将其优化结果进行比较，找到比较适合该文的目标函数。 |
| 学科主题 | 恒星光干涉及综合孔径 |
| 公开日期 | 2013-12-31 |
| 源URL | [http://ir.niaot.ac.cn/handle/114a32/533]  |
| 专题 | 期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴桢,林燮佳. 光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究[J]. 应用光学,2012,33(1):30-37. |
| APA | 吴桢,&林燮佳.(2012).光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究.应用光学,33(1),30-37. |
| MLA | 吴桢,et al."光学合成孔径成像技术的ｕｖ覆盖与孔径排列研究".应用光学 33.1(2012):30-37. |
入库方式： OAI收割
来源：南京天文光学技术研究所
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