Si纳米摩擦影响因素的MD研究
文献类型:会议论文
作者 | 由孟鑫; 陈少华![]() |
出版日期 | 2013 |
会议名称 | 北京力学会第19届学术年会 |
会议日期 | 2013-01-12 |
会议地点 | 中国北京 |
关键词 | 纳米摩擦 MD模拟 滑移速度 水膜厚度 |
页码 | 258-259 |
中文摘要 | 本文基于MD对硅材料界面摩擦力的影响因素进行了研究,主要考虑了干摩擦时相对滑移速度及湿摩擦界面水膜厚度的影响。结果表明,与宏观摩擦不同,相对滑移速度对微观摩擦力有重要影响,微观摩擦力随滑移速度的增加而增加;而当界面水膜厚度为单层水分子时,摩擦力与干摩擦相比有所增加。 |
会议录 | 北京力学会第19届学术年会论文集
![]() |
语种 | 中文 |
源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/48631] ![]() |
专题 | 力学研究所_非线性力学国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 由孟鑫,陈少华. Si纳米摩擦影响因素的MD研究[C]. 见:北京力学会第19届学术年会. 中国北京. 2013-01-12. |
入库方式: OAI收割
来源:力学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。