Study on improving the compactness of SiO2 thin film by PECVD
文献类型：期刊论文
| 作者 | GUO Wen-tao,TAN Man-qing,JIAO Jian,GUO Xiao-feng,SUN Ning-ning |
| 刊名 | journal of synthetic crystals
 |
| 出版日期 | 2013 |
| 卷号 | 42期号:4页码:577-581 |
| 学科主题 | 光电子学 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2014-04-28 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/24830]  |
| 专题 | 半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | GUO Wen-tao,TAN Man-qing,JIAO Jian,GUO Xiao-feng,SUN Ning-ning. Study on improving the compactness of SiO2 thin film by PECVD[J]. journal of synthetic crystals,2013,42(4):577-581. |
| APA | GUO Wen-tao,TAN Man-qing,JIAO Jian,GUO Xiao-feng,SUN Ning-ning.(2013).Study on improving the compactness of SiO2 thin film by PECVD.journal of synthetic crystals,42(4),577-581. |
| MLA | GUO Wen-tao,TAN Man-qing,JIAO Jian,GUO Xiao-feng,SUN Ning-ning."Study on improving the compactness of SiO2 thin film by PECVD".journal of synthetic crystals 42.4(2013):577-581. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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