二氧化锆电泳沉积膜的致密化烧结
文献类型：期刊论文
| 作者 | 卢立柱 ; 胡湖生 ; 谢慧琴 |
| 刊名 | 材料科学与工艺
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| 出版日期 | 1998 |
| 期号 | 01页码:1-4+12 |
| 关键词 | 电泳 薄膜 烧结 钇稳定二氧化锆 |
| 中文摘要 | 研究了钇稳定二氧化锆（8YSZ）微粉在金属陶瓷Ni－8YSZ基片和基管上的电泳沉积膜的致密化烧结过程。烧结收缩率△L／L随温度T的增高而增大，在1100～1300℃期间，收缩率随温度增加而急剧增加。重复沉积－烧结2次即可达到基本不漏气，每次重复增加厚度约为13μm。烧结后的8YSZ的晶型仍是稳定立方相。1440℃烧结2h的8YSZ薄膜硬度为4．33GPa，与文献报道的块体8YSZ硬度值相近，并且在1000℃时具有12.2S／m的0-2电导率和1．09eV的0－2电导激活能。 |
| 公开日期 | 2014-03-14 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7569]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卢立柱,胡湖生,谢慧琴. 二氧化锆电泳沉积膜的致密化烧结[J]. 材料科学与工艺,1998(01):1-4+12. |
| APA | 卢立柱,胡湖生,&谢慧琴.(1998).二氧化锆电泳沉积膜的致密化烧结.材料科学与工艺(01),1-4+12. |
| MLA | 卢立柱,et al."二氧化锆电泳沉积膜的致密化烧结".材料科学与工艺 .01(1998):1-4+12. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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