Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴铧 ; 沈电洪 |
| 刊名 | 真空科学与技术
 |
| 出版日期 | 1995 |
| 期号 | 03页码:172-175 |
| 关键词 | AlN陶瓷 镀钛 热力学 X射线光电子能谱 |
| 中文摘要 | 对AlN陶瓷在室温和超高真空条件下蒸镀金属钛过程的界面反应进行了热力学研究，并用X光电子能谱（XPS）进行了验证，表明在金属钛沉积以前AlN陶瓷在空气中表面部分被氧化，当样品沉积了金属钛后，刚沉积上的钛是氧化状态，随着钛沉积厚度的增加，表面TiN和Al2O3的成分都增加。 |
| 公开日期 | 2014-03-14 |
| 版本 | 出版稿 |
| 源URL | [http://ir.ipe.ac.cn/handle/122111/7861]  |
| 专题 | 过程工程研究所_研究所（批量导入） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴铧,沈电洪. Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究[J]. 真空科学与技术,1995(03):172-175. |
| APA | 吴铧,&沈电洪.(1995).Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究.真空科学与技术(03),172-175. |
| MLA | 吴铧,et al."Ti/AlN陶瓷界面反应的热力学研究".真空科学与技术 .03(1995):172-175. |
入库方式： OAI收割
来源：过程工程研究所
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