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一种干涉条纹垂直度测量方法

文献类型:专利

作者丑小全 ; 李华 ; 张建 ; 李立波 ; 焦巧利
发表日期2012-08-29
专利国别中国
专利号CN102252635
专利类型发明
权利人中国科学院西安光学精密机械研究所
中文摘要本发明提供一种干涉条纹垂直度测量方法,以解决现有技术测量干涉条纹垂直度判读精度不高的技术问题。本发明采用望远镜的分划十字对准干涉亮条纹(或暗条纹)的中心,在俯仰方向上自下而上(或自上而下)扫描干涉条纹范围α,然后望远镜的分划十字再次对准同一干涉亮条纹(或暗条纹)的中心,从二维转台上读数水平偏角β,根据扫描角度和相差值可算出垂直度值γ。本发明操作简便,克服了传统技术CCD靶面的不垂直度影响,提高了干涉仪干涉条纹垂直度的测量精度,扩大了检测干涉条纹的视场。
公开日期2011-11-23
申请日期2011-06-23
专利申请号CN201110170911
专利代理徐平
源URL[http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21137]  
专题西安光学精密机械研究所_系统工程部
推荐引用方式
GB/T 7714
丑小全,李华,张建,等. 一种干涉条纹垂直度测量方法. CN102252635. 2012-08-29.

入库方式: OAI收割

来源:西安光学精密机械研究所

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