走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 尤大伟 ; 李晓谦 ; 王怡德 ; 林永 |
| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2003 |
| 期号 | 3页码:1-5 |
| 关键词 | 等离子体离子辅助镀膜 无栅等离子体源 光学镀膜 |
| ISSN号 | 1003-8213 |
| 其他题名 | Plasma Assisted Optical Deposition Technology For Industrial Applications |
| 通讯作者 | 北京8701信箱 |
| 中文摘要 | 介绍一种新型等离子体辅助镀膜技术, 使用该技术可使高质量的光学镀膜大量 生产。该技术核心是无栅等离子体源( GIS) 。GIS 可以产生大面积的均匀等离子体, 直径大于1000mm。等离子体离子流强度高达0. 5mA/ cm2, 离子流能量20- 200eV, 并能激活反应气体O2 及蒸发原子, 用GIS 进行的等离子体离子辅助镀膜这一技术, 现正用于生产高质量的光学薄膜。 |
| 英文摘要 | A new plasma assisted technoology is introduced. U sing this technique it is possible to produce optical film of high quality in volume production. T he key to the technology is the gr idless plasma source( GIS ) . GIS can produce uniform plasma in large area, more than 1mdiameter , plasma ion cur rent density is up to 0. 5mA/ cm2 and ion energy is 20~ 200eV. It can excite reactive gas O2 and vapor ized atoms. Nowadays the plasma assisted deposition technology is being used to produce high quality optical films. |
| 学科主题 | 空间技术 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.cssar.ac.cn/handle/122/600]  |
| 专题 | 国家空间科学中心_空间技术部 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尤大伟,李晓谦,王怡德,等. 走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术[J]. 微细加工技术,2003(3):1-5. |
| APA | 尤大伟,李晓谦,王怡德,&林永.(2003).走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术.微细加工技术(3),1-5. |
| MLA | 尤大伟,et al."走向工业应用的离子辅助光学镀膜技术".微细加工技术 .3(2003):1-5. |
入库方式： OAI收割
来源：国家空间科学中心
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