光学镀膜用大束密均匀区离子源
文献类型：期刊论文
| 作者 | 况园珠 ; 郑保民 ; 李安杰 |
| 刊名 | 光学仪器
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 23期号:5页码:53-57 |
| 关键词 | 离子源 束流密度 均匀性 |
| ISSN号 | 1005-5630 |
| 其他题名 | An ion source with good beam current density uniformity for optical films deposition |
| 通讯作者 | 北京8701信箱 |
| 中文摘要 | 介绍一个适用于光学镀膜用的直径为120mm的大束密均匀区离子源的结构设计及性能参数,并对影响束密均匀性的因素进行了讨论. |
| 英文摘要 | This paper in t roduces the st ructu re design and perfo rmance parameters of a <120mm ion sou rce w ith good beam cu rren t un ifo rm ity fo r op t ical f ilm s depo sit ion. The facto rs effect ing the unifo rmity of beam cu rren t den sity are discu ssed. |
| 学科主题 | 空间技术 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.cssar.ac.cn/handle/122/612]  |
| 专题 | 国家空间科学中心_空间技术部 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 况园珠,郑保民,李安杰. 光学镀膜用大束密均匀区离子源[J]. 光学仪器,2001,23(5):53-57. |
| APA | 况园珠,郑保民,&李安杰.(2001).光学镀膜用大束密均匀区离子源.光学仪器,23(5),53-57. |
| MLA | 况园珠,et al."光学镀膜用大束密均匀区离子源".光学仪器 23.5(2001):53-57. |
入库方式： OAI收割
来源：国家空间科学中心
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。