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用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计

文献类型:期刊论文

作者尤大伟 ; 黄小刚 ; 任荆学 ; 李安杰
刊名真空科学与技术学报
出版日期2004
卷号24期号:6页码:451-454
关键词宽束 离子源 薄膜制备 光学薄膜 离子束 感应线圈 匹配 射频 镀膜 高性能
ISSN号1672-7126
其他题名Development of Broad Beam RF Ion Source for Thin Film Growth
通讯作者北京8701信箱
中文摘要采用射频宽束离子源进行离子束辅助镀膜可以获得高性能的光学薄膜,已越来越得到人们的共识。本文对射频感应线圈的匹配、起弧及三栅离子光学的关键技术进行了重点考虑,并获得了稳定运行的高性能离子源。
英文摘要A novel type of broad beam radio frequency (RF) ion source has been developed to grow optical films by ion beam assisted deposition.Matching of the inductive coils ,discharge property of the ion source and the 32grid optics were discussed. The lab2made RF ion source displays stable and satisfactory performance.
学科主题空间技术
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:1845721
源URL[http://ir.cssar.ac.cn/handle/122/629]  
专题国家空间科学中心_空间技术部
推荐引用方式
GB/T 7714
尤大伟,黄小刚,任荆学,等. 用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计[J]. 真空科学与技术学报,2004,24(6):451-454.
APA 尤大伟,黄小刚,任荆学,&李安杰.(2004).用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计.真空科学与技术学报,24(6),451-454.
MLA 尤大伟,et al."用于薄膜制备的射频宽束离子源的设计".真空科学与技术学报 24.6(2004):451-454.

入库方式: OAI收割

来源:国家空间科学中心

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