溅射工艺对MoS2溅射膜性能的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱昌铭 ; 朱才录 ; 张海 ; 袁娟娟 ; 徐锦芬 |
| 刊名 | 固体润滑
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| 出版日期 | 1982 |
| 期号 | 3页码:153-157 |
| ISSN号 | 1004-0595 |
| 中文摘要 | 为了进一步认识溅射MoS2的成膜机理和提高该膜的性能, 作者进行了溅射工艺对该膜性能影响的研究并考察了溅射电压、氨气压力、镀层厚度、底材形态与膜的淀积速率和耐磨寿命间的关系。这些结果表明, 膜的淀积速率, 耐磨寿命受电压和气压的影响具有一定的规律, 膜的生长状态随厚度的增长而有所变化, 使膜的颜色由灰色逐渐变为烟黑色, 相应的淀积速率也有明显的不同。 |
| 学科主题 | 材料科学与物理化学 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2014-06-19 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/5862]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_非现建制 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱昌铭,朱才录,张海,等. 溅射工艺对MoS2溅射膜性能的影响[J]. 固体润滑,1982(3):153-157. |
| APA | 朱昌铭,朱才录,张海,袁娟娟,&徐锦芬.(1982).溅射工艺对MoS2溅射膜性能的影响.固体润滑(3),153-157. |
| MLA | 朱昌铭,et al."溅射工艺对MoS2溅射膜性能的影响".固体润滑 .3(1982):153-157. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
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