单晶硅炉水垢的清洗方法
文献类型：专利
| 作者 | 赵卫 ; 孙传东; 郭昭龙
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| 发表日期 | 2012-05-02 |
| 专利号 | CN102114482 |
| 专利类型 | 发明 |
| 产权排序 | 1 |
| 权利人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 中文摘要 | 本发明提供一种单晶硅炉水垢的清洗方法，主要解决了现有清洗方法不能彻底清洗单晶硅炉炉内所形成的水垢，或清洗时可能造成单晶硅炉内中其他材质损坏的问 题。该单晶硅炉水垢的清洗方法是：1)先将一定量的水放入带有超声波振荡和加热装置的储液箱，将水加热至10～60℃；2)将酸液分别缓缓加入储液箱，开 启超声波进行搅拌；3)通过清洗液的高速冲刷和反应来清洗水垢等步骤处理，完全清洗掉水垢。 |
| 公开日期 | 2011-07-06 |
| 申请日期 | 2010-12-06 |
| 专利申请号 | CN201010574823 |
| 源URL | [http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21754]  |
| 专题 | 其它单位_其它部门 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵卫,孙传东,郭昭龙. 单晶硅炉水垢的清洗方法. CN102114482. 2012-05-02. |
入库方式： OAI收割
来源：西安光学精密机械研究所
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